并成功收购整合了概伦电子、禾芯科技与我们内部的团队。

    如果没有这套我们自己的、与联合体模式深度绑定的EDA工具，特别是早期介入PDK联合开发的能力，我们的‘联合体’就像失去神经中枢，根本无法实现如此高效的协同和快速的突破！”

    “孟教授的工艺模型，需要EDA来实现仿真；

    海思的设计创新，需要EDA来具象化；

    制造端的天线效应、热点问题，需要EDA在设计阶段就预警和规避。”

    冯庭波总结道，“陈总提供的，不仅仅是一套工具，更是贯穿我们整个芯片创新链条的‘数字血脉’和‘决策大脑’！这次14nm风险量产的成功，EDA团队厥功至伟！”

    三块基石：顶尖的统帅（孟良凡）、创新的模式（联合体）、自主的工具（EDA）——被清晰勾勒。

    在座众人无不颔首，脸上露出钦佩。

    他们深知，在这三线上同时突破并完美融合，需要何等的战略眼光、资源投入和执行力。

    此刻，他们对数年前就开始顶住压力、默默布局国产替代的冯庭波、陈默，以及创造出工业奇迹的孟良凡，敬佩之情油然而生。

    介绍完14nm的突破和三大基石后，冯庭波将话语权交给了孟良凡，由这位技术主帅阐述下一步，更为艰巨的作战计划。

    孟良凡站起身，走到投影前，脸上因激动而泛着红光，语调高昂：

    “感谢庭波总，感谢各位的信任！

    14nm风险量产的成功，证明了我们道路的正确和华兴体系的强大！

    但是，战场形势瞬息万变，我们不能有丝毫懈怠！”

    他话锋一转，操作电脑，展现出清晰的技术演进图。

    “各位，在确保14nm年底规模量产的同时，我们必须立即向下一个战略高地发起冲锋——那就是N+1良品率！”

    “N+1良品率？” 汪剑锋也来了兴趣，身体微微前倾，他不是不懂，而是要引出更深层的讨论：

    “孟教授，N+1的意义我们都清楚。

    但在外部环境持续加压的背景下，我们选择N+1这条路，在技术和资源上，面临的最大、最具体的‘拦路虎’是什么？

    我们需要集团提供什么样的超常规支持？”

    这个问题，精准、犀利，直指核心，展现了汪剑锋作为研发统帅对供应链风险和技术瓶颈的深刻洞察。

    孟良凡重重点头，表情变得无比严肃，甚至带着一丝悲壮：

    “汪总问到了最关键处！我们走N+1这条路，不是最优选，而是唯一选！是被逼出来的血路！”

    他深吸一口气，开始剖析这背后的残酷现实与技术壁垒：

    “首先，我必须再次强调一个冰冷的事实：

    没有EUV光刻机，我们理论上就无法实现与台积电或者五星公司同代竞争的7nm工艺。”

    他抛出了那个让所有华兴人心痛的事实：

    “我们曾在2018年，在冯董的全力推动下，历经艰难谈判，成功与ASML签署了EUV采购合同！”

    会议室一片死寂，所有人都知道这个故事，但每次提起，依然感到沉重的无力。

    “但是，这台我们已经付款的寄托着我们高端芯片梦想的机器，至今仍因非商业的外部干预，无法交付！EUV之路，事实上已被封死！

    而且，我们的合作伙伴中芯也定了一台，同样因为外部干预没有交货。”

    “砰！” 罗朝斌忍不住拍了下桌子，想骂一个马勒戈壁的。

    但脸上怒容一闪而逝，最终化为沉重的叹息。

    “所以，” 孟良凡双手撑在桌面上，语气充满了不甘却又无比坚定，“我们只能，也必须，在现有的DUV光刻机上，进行极限操作，走一条无比艰难、但充满智慧的‘迂回之路’！这就是N+1、N+2！”

    他开始深入解释N+1工艺的本质和巨大挑战：

    “N+1，本质上是在我们14nm Fi工艺平台上，通过一系列登峰造极的‘技术魔术’去无限逼近更高制程的性能。当然这里面的核心就是多重曝光。”

    他用了一个形象的比喻：

    “这就好比，别人开着装备了顶级GPS和引擎的越野车（EUV）在平坦大道上飞驰。

    而我们，被没收了关键装备，只能开着一辆性能不错的家用轿车（DUV）。

    但我们凭借对地图的极致研究（物理和工艺理解）和超凡的驾驶技术（多重曝光等复杂工艺），硬是要在一条布满巨石和深坑的崎岖山路上，蹚出一条能到达目的地的通道。”

    “代价是什么？” 孟良凡自问自答，语气沉重。

    “代价是工艺步骤复杂度成倍增加，生产周期大幅拉长，初始良率惨不忍睹，以及单个芯片成本的急剧飙升！

    代价是在冯总和陈总不遗余力的配合下，今年3三月把良品率才很勉强得提高到了68%，目前还在艰难爬坡中！

    这是一种‘笨’办法，一种‘苦’办法！

    但，这是我们唯一能掌握能通向自主高端的生命线！”

    他看向汪剑锋，又看向陈默：

    “所以，汪总，您问最大的挑战和需要什么支持？

    挑战在于，我们需要在工艺、设计、工具链三个维度，同时进行极限突破，容不得任何一块短板！

    需要的支持是，集团必须持续给予我们超越常规的耐心、资源和政策倾斜，理解并接受N+1初期在成本和效率上的‘不完美’。”

    孟良凡的陈述，将N+1之路的艰难与决绝展现得淋漓尽致。

    他将目光投向陈默，眼神中充满了“神兵利器”的渴求，也带着并肩作战的战友的期待与挑战。

    “陈总，” 孟良凡的语气无比郑重。

    “您也知道N+1的艰难。

    这条路，对EDA工具链的要求，是颠覆性的。

    它要求工具不再是被动适应规则，而是要主动驱动设计、预测制造、赋能工艺！”

    他转向全场，详细列举出N+1给EDA带来的具体、严峻的挑战，每一项都直指核心：

    “第一，设计规则的复杂性与强制性。

    多重曝光导致设计规则数量爆炸式增长，且规则之间关联性极强。

    EDA工具必须能理解、消化并强制推行这套‘天书’，还能智能识别和规避规则冲突，否则版图根本无法制造。”

    “第二，模型精度必须逼近物理极限。

    在N+1尺度下，量子效应、统计涨落效应凸显。

    我们需要原子级精度的器件模型，需要电-热-力多物理场耦合仿真平台。

    模型失之毫厘，流片结果可能谬以千里！”